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RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀

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RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀

  • 所屬分類:RLK900X射線能譜儀

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  • 發布日期:2019/03/04
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RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀


RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀,是目前國際最先進的新型XAFS/XES光譜儀。RLK900居於新原理和新結構;采用獨有的、專利的SBCA晶體,實現X射線的單色掃描;采用小功率的X-Ray源,使研究試驗室內就能夠方便運行。

RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀,可以完成XAS(X-ray Absorbtion SpectroScopy)和XES(X-ray Emmision Spectroscopy)兩種光譜的研究,能夠獲得掃描範圍5keV-12keV,分辨率優於1eV的譜線。

RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀,將信號探測、掃描控製、數據顯示高度集成化,使用前隻需簡單的參數設置、校準確認,即可方便進行研究試驗。

RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀,作為一種目前國際最新型的儀器,為各種材料研究分析拓展手段,用戶能夠在實驗室就能隨時開展研究,而不再受到條件限製。可廣泛應用於各種材料研究分析領域,包括納米材料、半導體材料、催化材料、生物材料、軍用特種材料、礦產分析等。將成為材料研究必選設備。

產品特點(Features)

Ø 新原理新構造:居於新原理和新構造的X-ray光譜儀;

Ø 高分辨率:    采用獨有的、專利的SBCA晶體作為核心器件,實現X射線單色掃描,分辨率達到1eV;

Ø 高品質能譜曲線:與同步輻射相當品質的能譜曲線;

Ø 試驗室儀器:  在試驗室就可完成XAFS/XES的研究,不再受到條件限製;

Ø 高集成性:    儀器集成探測、控製、分析,軟件運行於Windows操作係統;

Ø 應用麵廣:    納米材料、半導體材料、催化材料、生物材料、軍用特種材料、礦產分析等各種材料研

究分析領域

技術指標(Specification)

型號Model

RLK900 高分辨率XAFS/XES光譜儀

原理Principle

SBCA晶體、Roland圓、X-ray單色掃描

能量範圍

Energy Range

5KeV-12KeV

能量分辨率

Energy Resolution

0.5-1.5eV

工作模式

Working Mode

XAS/XES

布拉格角範圍

Bragg Angle Range

65°-85°

X射線源

X-ray Tube

10W(Max)50KV@200uA(X 光點直徑~0.5mm)

光學係統

Optics System

SBCA單色分光、Roland圓Bragg掃描(Roland 直徑500mm)

探測器Detector

半導體電製冷SDD

通訊接口

Communication  interface

RS-232

工作電壓

Power Supply

220VAC

工作溫度

Temperature

-10℃  ~ +50

外形尺寸Dimension

1200(L)*1200(W)*1100(H)

重量Weight

350Kg

軟件Software

RLK900專用軟件(WindowsXP/Windows 7)

 

 




本文網址:/product/625.html

關鍵詞:實驗室X射線吸收譜儀,X射線吸收譜儀

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